O equipamento emprega um laser de estado sólido com um comprimento de onda de 1030 nm, o que é ideal para gravação de linha fina em vidro condutor e revestimentos. Ele utiliza software de controle auto-desenvolvido que permite a importação direta de dados CAD para a gravação a laser, tornando a operação simples, conveniente e rápida. O design incorpora ajustes de software em tempo real para o galvanômetro e os motores lineares, juntamente com uma mesa de trabalho de elevação elétrica, complementada por um dispositivo de bandeja de sucção a vácuo, garantindo efetivamente a estabilidade da máquina de gravação a laser durante o processamento. Um sistema exclusivo de remoção de poeira também é integrado para manter a limpeza do vidro e da superfície de trabalho, garantindo que nenhum resíduo permaneça durante o processo de gravação a laser.
Principais recursos:
Fabricação avançada: Pasta alta flexibilidade, precisão e velocidade.
Alta eficiência: Garante alta capacidade de produção, aumentando a eficiência geral.
Econômico: O produto é confiável, estável e oferece alto desempenho a um preço competitivo.
Ampla aplicação: Capaz de realizar uma gravação precisa e de alta velocidade para vários padrões e tamanhos em uma grande faixa.
Principais componentes:
O sistema consiste em um laser, sistema de caminho óptico, sistema de movimento, sistema de controle, sistema de posicionamento, sistema de extração de poeira, sistema de adsorção de vácuo e muito mais.
Parâmetros técnicos:
| Modelo | RS-ET1260 Solar Perovskite Battery Laser Stocation Machine | ||
| Fonte a laser | Laser de femtossegundo / picossegundo | Laser de nanossegundos | |
| Comprimento de onda | 1030nm/532nm | 1064nm | |
| Faixa de processamento | 1200*600mm/600*500mm/500*400mm | 1200*600mm/600*500mm/500*400mm | |
| Ponto de feixe focado | ＜10μm | ＜10μm | |
| Faixa de ajuste de frequência a laser | 20-5000 khz | 100-500 khz | |
| Largura de linha de gravação mínima | ＜ 10 Hum |
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| Precisão geral da máquina | ±15μm | ±20μm | |
| Espaçamento mínimo de linha | ＜10μm | ＜20μm | |
| Precisão de posicionamento da bancada de trabalho | ± 2um | ± 2um | |
| Precisão de repetibilidade de Workbench | ± 1um | ± 1um | |
| Precisão do posicionamento automático do CCD | ± 2um | ± 2um | |
| Velocidade de gravação | ＜ 4000mm/s | ＜ 4000mm/s | |
| Dimensões da máquina | 1950mm × 1700mm × 1960mm | 1950mm × 1700mm × 1960mm | |
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Formatos de arquivo suportados |
Arquivo DXF de versão CAD 2004 padrão | Arquivo DXF de versão CAD 2004 padrão | |
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Peso da máquina |
3500kg | 3500kg | |
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Fonte de energia |
220V 50/60Hz | 220V 50/60Hz | |
Indústrias aplicáveis:
Encontrando a laser em substratos revestidos, como vidro, bolachas de silício, cerâmica, filmes de animais de estimação etc., comumente usados em indústrias, incluindo telas sensíveis ao toque, células solares fotovoltaicas, vidro eletroqurômico, vidro inteligente, vidro luminescente e outras telas de exibição para o processamento de etc.
Ser usado em uma ampla gama de aplicações
Etaço a laser de óxido de zircônia e titânio na camada P2
Produto acabado de bateria de perovskite
Fto gravação a laser
ITO ETCHING LASER
Etago a laser da camada de carbono em P3
Rabiscamento a laser de vidro branco
